一、產品性能
1、TX-Cr-L屬于第三代高效鍍硬鉻工藝,是當今最先進的鍍硬鉻工藝技術;
2、用途廣泛,能滿足眾多領域(凹版、活塞桿、結晶器、減震器、模具等)的工件內外腔鍍硬鉻要求,并能獲得優良的電鍍質量;
3、采用特殊新型的催化劑,沉積速度增快,有效提高電流效率,可達23-26%,大大縮短了電鍍時間,從而降低能耗成本;
4、不含鹵素元素,對基體的低電流密度區以及陽極不產生腐蝕;
5、鍍層顯微硬度可達900-1100HV;
6、鍍層韌性優良,能有效防止高電流區鉻層起皮故障;
7、鍍層結晶細膩,孔隙率低,鍍層內應力小,可以有效減少晶界腐蝕的產生;
8、工藝對設備的要求并不復雜,該工藝技術先進、性能穩定、操作簡單、易維護;
9、基于多年推廣、使用的經驗,其他的鍍硬鉻工藝都可簡單地轉換成此工藝,并根據貴工廠實際生產情況,可以提供適合貴廠生產條件的生產操作工藝。
二、工藝條件
項目 | 工藝范圍 | 標準值 |
鉻酐 | 220-280g/L | 260g/L |
硫酸 | 2.0-3.0g/L | 2.6g/L |
鉻酐:硫酸 | 100:0.8-1.2 | 100:1.0 |
三價鉻 | 2-5g/L | 2.5-3.5g/L |
溫度 | 55-62℃ | 60℃ |
電流密度 | 20-70A/dm2 | 30A/dm2 |
陽極 | 鉛合金、鈦基鉑金等 | |
開缸量 | 15-25ml/L | 20ml/L |
補充量 | 50-80ml/Kg CrO3 | 60ml/Kg CrO3 |