鍍鉻溶液中帶入氯離子一直是制版電鍍比較頭疼的問(wèn)題，鍍鉻槽中氯離子累積達(dá)150ppm以上時(shí)，鍍鉻溶液的電流效率和深鍍能力降低，鍍層發(fā)暗起花斑、針孔、抗腐蝕蝕能力明顯降低，出現(xiàn)乳灰色的燒焦鍍層，鍍出的產(chǎn)品不合格率明顯增多，尤其以版輥鍍鉻層的耐腐蝕性降低最為嚴(yán)重。本文簡(jiǎn)單介紹氯離子的帶入途徑及去除方法。

一、帶入途徑

     1、鍍鉻液加入的純水質(zhì)量差，即電導(dǎo)率較高，一般要求鍍鉻純水電導(dǎo)率低于10西門子/米（S/m），純水質(zhì)量差是制版行業(yè)氯離子帶入的最主要途徑，個(gè)別廠使用自來(lái)水配制鍍鉻溶液或者鍍槽中直接補(bǔ)加自來(lái)水；

     2、清洗陽(yáng)極使用鹽酸浸泡時(shí)，陽(yáng)極必須用純水清洗干凈。陽(yáng)極使用鉛板在鍍鉻過(guò)程中容易產(chǎn)生氧化鉛，氧化鉛在鍍鉻溶液中又極易轉(zhuǎn)化為鉻酸鉛，由于這一弊端的存在，影響了鍍鉻時(shí)電流的正常通過(guò)，使陽(yáng)極面積相對(duì)減小，進(jìn)而又促使溶液中三價(jià)鉻積累。為此，需要定期將鉛板取下在稀鹽酸中浸泡，這樣做不但增加了操作工序，還會(huì)嚴(yán)重危害鍍鉻溶液的純度，把大量的氯離子帶進(jìn)鍍鉻溶液中。因?yàn)辂}酸不可能把鉛板表面的氧化鉛完全浸泡掉，而且氧化鉛與鹽酸作用時(shí)生成的氯化鉛又是微溶物質(zhì)，附在鉛板表面上的氯化鉛在水中難以漂洗，這又是增加鍍鉻溶液中氯離子濃度的原因之一；

      3、鹽酸退鉻后清洗不徹底而將氯離子帶入鍍鉻溶液。目前仍有很多制版廠采用鹽酸退鉻，退鉻后版輥筒又清洗不徹底，尤其是內(nèi)壁，附著的離子進(jìn)入鍍鉻溶液。

二、去除方式

  對(duì)于鍍鉻溶液中微量氯離子的去除尚無(wú)簡(jiǎn)單的方法可以使用，目前常用的方法是加熱電解法和沉淀法，但很難徹底去除，所以應(yīng)盡量避免帶入。

    1、加熱電解法

（1）理論依據(jù)

對(duì)于氯離子的去除一般采用加熱電解法，但是電解時(shí)水和氯離子都可在陽(yáng)極氧化生成氧氣和氯離子，具體反應(yīng)方式為：

2H₂O—4e→O₂↑+4H⁺

2Cl^——2e→Cl₂↑

而水與氯離子的放電電位相差很近（理論數(shù)據(jù)為0.045伏），并且氯離子的導(dǎo)電能力大于水分子所以在陽(yáng)極上幾乎有相等的機(jī)會(huì)使氯氣析出。

  （2）具體方法

將鍍鉻溶液加熱到70-80℃（前提是鍍槽可以承受），電流密度調(diào)整為70-80A/dm²（設(shè)備電流允許的前提下），裝版輥進(jìn)行電解，具體電解時(shí)間以化驗(yàn)數(shù)據(jù)、正常鍍版版面情況做參考。

 （3）弊端

   采用高溫、高電流電解的方法處理氯離子，一方面增加能耗，另一方面需要考慮設(shè)備承受能力。

  2、沉淀法

（1）理論依據(jù)

當(dāng)鍍鉻液中帶入較多的氯離子時(shí)，也可采用加入碳酸銀生成氯化銀沉淀的方法去除氯離子，具體反應(yīng)方式為：

Ag₂CO₃+2HCl=2AgCl↓+CO₂↑+H₂O

所以根據(jù)上述反應(yīng)方程式可以計(jì)算出理論上一克碳酸銀可以去除0.25克氯離子。考慮到鍍鉻溶液中的鉻酸、硫酸同時(shí)會(huì)與銀離子反應(yīng)生成鉻酸銀（Ag₂CrO₄）、硫酸銀（Ag₂SO₄），且二者均難溶于水，但是根據(jù)溶度積原理，生成鉻酸銀、硫酸銀沉淀所需要的銀離子濃度較生成氯化銀沉淀所需要的銀離子濃度高很多，所以為了使加入的銀離子與氯離子充分反應(yīng)，應(yīng)將碳酸銀充分研磨，在劇烈攪拌下分批次、均勻加入。

（2）具體方法

 將計(jì)算量的碳酸銀顆粒充分研磨，開(kāi)啟循環(huán)泵，將碳酸銀粉末分4-6次加入鍍鉻溶液，并循環(huán)24小時(shí)以上。期間不定期取液分析化驗(yàn)其中氯離子含量，如果沒(méi)有達(dá)到預(yù)期處理量，增加循環(huán)時(shí)間，直至氯離子含量達(dá)到工藝要求。

（3）弊端

  采用此方法處理時(shí)需要長(zhǎng)時(shí)間循環(huán)鍍液，而且碳酸銀價(jià)格很高，成本很大。

三、綜合建議

  以上兩種處理方式各有優(yōu)劣，而且操作不好，處理的效果會(huì)很差，所以我們需要從源頭解決氯離子的帶入，保證鍍鉻層質(zhì)量。